檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Ying-Sheng Huang".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="離子束濺鍍法"
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以離子濺鍍法,在沈積氧化鋅薄膜同時,除了通入氬氣作為轟擊靶材之離子源,也直接加入氮氣,可將氮摻雜到氧化鋅薄膜,形成摻氮氧化鋅(ZnO:N)。以XRD分析成長溫度為300C之摻氮氧化鋅薄膜中只有氧化…
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此實驗以反應式離子束濺鍍法成長氧化銀薄膜,採用毛細式離子源(6∼8 kV、100∼500 uA)及陽極層離子源 (0.7 kV、13.5 mA) ,同時通入氬氣及氧氣,氬氣為濺鍍氣體,氧氣為反應氣體…
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使用毛細式離子源濺鍍氧化鋅靶,沉積氧化鋅薄膜於晶向(100)矽基板上,隨後於氧與氮氣氛下退火,討論不同退火條件對氧化鋅薄膜特性之影響。 XRD顯示未退火之氧化鋅薄膜無任何繞射峰值,ZnO(002)繞…